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Photoresists
FUJIFILM Electronic Materials offers a wide range of advanced imaging products, to meet the needs of its customers around the world.
The photoresist product line encompasses a wide range of applications including broadband, g-line, i-line, 248nm, 193nm (dry and immersion), e-beam and EUV technology. The portfolio also includes a unique negative tone development resist system to address next generation needs, including double patterning.
Materials for positive dry and immersion imaging, and negative tone development (NTD)
Positive tone KrF photoresists covering a broad range of applications - PFOS & PFAS free
Extensive series of mid-uv sensitive photoresists for applications encompassing sub-0.30 µm to >1.0 µm resolution
Multiple series of negative tone, polyisoprene-based resist systems
Positive and negative tone resist series for a wide array of e-beam imaging applications
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